Product center
日本napsonμ非接觸μ-PCD法測量硅片磚壽命
測量目標
單晶/多晶硅晶片,磚(散裝)
測量尺寸
[晶片] <方形>
?210 x 210mm <圓形>?200mmφ
[磚]大210(寬)x 210(高)x 500(深)mm
測量范圍
0.1μS至1,000μS
(要測量的電阻范圍; 0.1至1kΩ ·cm)
<測量激光單元>類型:半導體激光二極管,
波長:905 nm(對于晶片)/ 1,000 nm(對于磚),峰值功率:60 W,脈沖寬度:80 nS
測量目標
單晶/多晶硅晶片,磚(散裝)
測量尺寸
[晶片] <方形>
?210 x 210mm <圓形>?200mmφ
[磚]大210(寬)x 210(高)x 500(深)mm
測量范圍
0.1μS至1,000μS
(要測量的電阻范圍; 0.1至1kΩ ·cm)
<測量激光單元>類型:半導體激光二極管,
波長:905 nm(對于晶片)/ 1,000 nm(對于磚),峰值功率:60 W,脈沖寬度:80 nS